直流真空陰極弧管狀內(nèi)壁制備TiN涂層性能研究

摘要： 采用直流真空陰極弧沉積技術(shù)在管狀內(nèi)壁上制備了TiN涂層。用光學顯微鏡、SEM(掃描電子顯微鏡)、臺階儀、X射線衍射能譜(XRD)、顯微硬度計檢測了涂層的結(jié)構(gòu)和力學等相關(guān)特性。結(jié)果表明：管狀內(nèi)壁表面涂層厚度在2.7～3.0μm，厚度均勻性為94.7%；涂層表面粗糙，均存在著大量微米級的顆粒分布，表面粗糙度Ra較未處理的樣品增幅約為0.2～0.3μm，涂層由立方相的TiN(111)... （共8頁）