輝光放電質(zhì)譜法測定鎳基高溫合金中痕量鎘

摘要： 輝光放電質(zhì)譜(GDMS)測定鎳基高溫合金中痕量鎘時(shí)，會受到¹¹⁴Sn~+及MoO~+多原子離子的質(zhì)譜干擾。本文選擇¹¹⁴Cd為分析同位素和高分辨模式，采用標(biāo)準(zhǔn)相對靈敏度因子(RSF_(Std))先進(jìn)行校正后再采用干擾校正方程校正¹¹⁴Sn~+及MoO~+多原子離子的質(zhì)譜干擾，實(shí)現(xiàn)了輝光放電質(zhì)譜對鎳基高溫合金中痕量鎘的測定。對儀器參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化，確定參數(shù)如下：放... （共6頁）