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鉭硅復(fù)合介質(zhì)薄膜皮秒脈沖激光刻蝕機(jī)理研究

應(yīng)用激光 頁(yè)數(shù)： 11 2024-11-25
摘要： 針對(duì)鉭硅復(fù)合介質(zhì)薄膜表面精密刻槽需求，運(yùn)用532 nm皮秒激光在鉭硅復(fù)合介質(zhì)薄膜表面進(jìn)行刻蝕，利用光學(xué)顯微鏡、掃描電子顯微鏡、激光共聚焦顯微鏡和能譜儀分別對(duì)激光刻蝕后組織的顯微形貌、元素成分進(jìn)行分析。通過(guò)建立三維燒蝕模型對(duì)激光與鉭硅復(fù)合介質(zhì)薄膜作用的溫度場(chǎng)進(jìn)行分析。結(jié)果表明，當(dāng)激光能量密度為3.24 J/cm~2時(shí)，可以在不損傷二氧化硅介質(zhì)薄膜和基材的情況下將氧化鉭介質(zhì)薄膜有效... （共11頁(yè)）

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