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后司岙窯址出土粗顆粒匣缽損壞機(jī)理的研究

中國(guó)陶瓷 頁(yè)數(shù): 6 2024-09-24
摘要: 以越窯后司岙窯址出土唐、五代匣缽為主要研究對(duì)象,通過X-射線衍射儀對(duì)模擬匣缽試樣進(jìn)行物相分析,發(fā)現(xiàn)試樣的2θ在10°~80°范圍內(nèi)均有衍射峰出現(xiàn),最強(qiáng)峰2θ在25°~26°范圍內(nèi),這與石英的最強(qiáng)峰位置一致,此石英是匣缽中未完全熔融的殘留石英顆粒。研究結(jié)果表明:匣缽試樣中方石英的析出量隨著試燒次數(shù)的增加而增加,但析出的速率則隨之降低,莫來(lái)石晶體也隨之增加并變成短柱狀,莫來(lái)石和方石... (共6頁(yè))

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