當前位置:首頁 > 科技文檔 > 化學 > 正文

高表面氧空位濃度的Bi2O4光催化劑的制備及其可見光降解性能研究

環(huán)境科學學報 頁數(shù): 12 2024-09-03
摘要: 表面氧空位(O_V)濃度在改善缺陷光催化劑的催化性能方面具有重要作用,典型的水熱法制備的Bi2O4的表面O_V濃度相對較低.如何通過后處理方法提高Bi2O4的表面O_V濃度進而提高其可見光催化性能仍然是一個值得研究的問題.本研究通過用HNO3對Bi2O4進行后處理,成功地實現(xiàn)了Bi2O4表面O_V濃度的提高.增強的表面O_V濃度可捕獲更多的光生電子,從而提高B... (共12頁)

開通會員,享受整站包年服務(wù)