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氧氣流量對(duì)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積硅氧烷涂層的防原子氧性能的影響

硅酸鹽學(xué)報(bào) 頁數(shù)： 9 2024-10-12
摘要： 低軌環(huán)境下的原子氧是造成聚酰亞胺薄膜被剝蝕失效的關(guān)鍵因素，硅氧烷涂層是對(duì)聚酰亞胺薄膜進(jìn)行空間原子氧防護(hù)的重要手段。利用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的方法在聚酰亞胺薄膜基材上在不同氧氣流量下制備了硅氧烷涂層，研究了氧氣流量對(duì)涂層的沉積速率、斷面形貌和成分的影響，對(duì)涂層樣品開展了原子氧作用試驗(yàn)并測(cè)定了試驗(yàn)后的質(zhì)量損失及表面形貌。研究結(jié)果表明，隨著氧氣流量的增加，涂層中的有機(jī)基團(tuán)逐漸減少... （共9頁）

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