光柵干涉精密納米測量技術(shù)

摘要： 光柵干涉測量是一種重要的精密納米測量技術(shù)，具有高分辨率、高抗干擾能力和多自由度擴(kuò)展的優(yōu)勢，在先進(jìn)節(jié)點(diǎn)光刻機(jī)、超精密機(jī)床等場景中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。對比介紹了光柵干涉、激光干涉與時(shí)柵測量技術(shù)，明確其應(yīng)用場景和當(dāng)前性能參數(shù)，闡述了光柵干涉測量中的零差和外差兩種技術(shù)原理，并在此基礎(chǔ)上分析了光柵干涉儀的國內(nèi)外發(fā)展動(dòng)態(tài)，包括代表性的設(shè)備廠商，和近年來國內(nèi)外在納米及亞納米精度的單、多自由... （共21頁）