聚天冬氨酸的合成及其性能研究
摘要: 以馬來酸酐和氨水為原料合成聚天冬氨酸。用紅外光譜和核磁共振對(duì)聚天冬氨酸進(jìn)行了結(jié)構(gòu)表征,用黏度法測(cè)定了聚天冬氨酸的黏均分子量,用靜態(tài)阻垢法評(píng)價(jià)聚天冬氨酸的阻垢性能,用旋轉(zhuǎn)掛片法測(cè)定聚天冬氨酸的緩蝕性能;比較聚天冬氨酸與水解聚馬來酸酐(HPMA)、氨基三甲叉膦酸(ATMP)的阻垢緩蝕性能。結(jié)果表明,最適宜合成工藝條件為:n(馬來酸酐)∶n(氨水)=1∶1.1,熱聚溫度160℃,縮聚時(shí)間60 min;當(dāng)阻垢劑濃度大于6.4 mg/L時(shí),PASP和ATMP的阻垢性能相當(dāng),均優(yōu)于HPMA。 (共5頁)
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