人工晶體學(xué)報(2014年05期)
Journal of Synthetic Crystals

目 錄

• SiC襯底上生長的GaN外延層的高分辨X射線衍射分析
• 美研制出環(huán)保型鈣鈦礦太陽能電池
• In摻雜對MVB-Te溶劑法生長的ZnTe晶體光電性能的影響
• ZnO納米棒的電致發(fā)光研究
• 氧離子后處理對氧化銦錫(ITO)薄膜電學(xué)和光學(xué)性能的影響
• 摻鈦藍(lán)寶石晶體熱學(xué)性質(zhì)研究(英文)
• 蘇州納米所電化學(xué)法高產(chǎn)率制備石墨烯研究獲進(jìn)展
• 不同應(yīng)力下的雙層鈣鈦礦錳氧化物L(fēng)a_(1.3)Sr_(1.7)Mn_2O_7薄膜輸運(yùn)特性研究
• ZnO過渡層對Au/Hg_3In_2Te_6肖特基接觸特性的影響研究
• 表面活性劑對水熱合成納米ZnWO_4∶Eu~(3+)性能的影響
• 合成聚合物微粒新方法
• 氣體高壓合成爐的設(shè)計(jì)及在小批量合成高純ZnSe多晶中的應(yīng)用
• GaSb/GaAs異質(zhì)結(jié)熱光伏電池材料的MBE生長
• W/TiO_2/ITO薄膜的阻變性能及其機(jī)理研究
• Cu/Hg_3In_2Te_6歐姆接觸形成機(jī)制的研究
• 畸變鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的晶體定向轉(zhuǎn)換方法與應(yīng)用
• 研磨方式對單晶藍(lán)寶石亞表面損傷層深度的影響
• 磁控濺射PbSe薄膜厚度對其結(jié)構(gòu)及光學(xué)特性的影響
• 濕法刻蝕腔室結(jié)構(gòu)數(shù)值優(yōu)化
• Li_2CO_3對0.7CaTiO_3-0.3SmAlO_3陶瓷性能的影響
• 磁子晶體的研究進(jìn)展
• Y_2O_3添加對Nb_2O_5低膨脹陶瓷結(jié)構(gòu)與性能的影響
• 電子束蒸發(fā)法制備CdS薄膜光電特性研究
• 原位熱壓燒結(jié)制備NbC增強(qiáng)Nb_4AlC_3復(fù)合材料及其力學(xué)性能研究
• 乙二胺溶劑熱法合成YAG∶Ce超細(xì)粉體及發(fā)光性能研究
• 原位生長莫來石增強(qiáng)磷酸鉻鋁復(fù)相陶瓷的制備及性能
• H_2O/HAc對納米TiO_2/硅藻土復(fù)合材料TiO_2晶相和性能的影響
• MEH-PPV/ZnO-QDs聚合物太陽電池光伏性能研究
• 熱分解工藝對溶膠-凝膠法制備Tl-2212超導(dǎo)薄膜特性的影響
• MOCVD生長AlN的化學(xué)反應(yīng)-輸運(yùn)過程數(shù)值模擬研究
• 硅與非硅材料“混搭”難題解決
• 12重固/固型準(zhǔn)周期聲子晶體的帶隙和局部化特性研究
• 氬氣流速對400mm大直徑磁場直拉單晶硅固液界面、熱應(yīng)力及氧含量的影響
• CuO/BaCo_(0.02)~ⅡCo_(0.04)~ⅢBi_(0.94)O_3共摻Ba_(0.5)Bi_(0.5)Fe_(0.9)Sn_(0.1)O_3熱敏厚膜的微結(jié)構(gòu)及電學(xué)性能研究
• 非水解溶膠-凝膠法制備硅酸鋯晶須初探
• Sr_2Si_5N_8∶Eu~(2+)光物理性能及電子結(jié)構(gòu)的研究
• 石墨烯/Fe_2O_3納米復(fù)合材料的制備及其儲鋰性能研究
• TiO_2對固相反應(yīng)制備莫來石陶瓷性能影響
• 中國科大提出一種納米線界面摻雜的新策略
• 氧化鋅納米粒子的合成及其表面功能化修飾
• 黑色二氧化鈦制備與太陽能利用研究獲系列進(jìn)展
• 多晶硅爐氬氣導(dǎo)流系統(tǒng)設(shè)計(jì)與數(shù)值模擬優(yōu)化
• 摻雜和包覆H_3BO_3對BZN陶瓷燒結(jié)和介電性能的影響
• 熔鹽法合成二硼化鈦納米粉體研究
• 短程有序結(jié)構(gòu)中寬帶二次諧波產(chǎn)生的研究
• 稀土對Al_2O_3-TiC/Fe基金屬陶瓷材料性能的影響
• Cu薄膜生長過程的Monte Carlo模擬
• 摻P石墨烯結(jié)構(gòu)和電子性質(zhì)的第一性原理研究
• 核桃狀3D分級結(jié)構(gòu)γ-AlOOH無模板水熱合成及對剛果紅吸附性能研究
• 二氧化硅對鋯酸鈣材料結(jié)構(gòu)及性能的影響
• BiOCl(110)表面電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)吸收的第一性原理研究
• 金屬納米薄膜對大孔徑光子晶體光纖傳感特性的影響
• 寬通帶寬截止帶通濾光片研究
• 煤油浮選硅片切割廢砂漿中碳化硅的作用機(jī)理研究
• 不同材料構(gòu)成聲子晶體帶隙特性研究
• 固化劑對磷酸鹽粘結(jié)劑固化行為的影響研究
• 《人工晶體學(xué)報》征稿簡則